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            1. GMP-F 玻璃掩膜靶

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                首頁 > 產(chǎn)品中心 > 玻璃掩膜靶 > GMP-F 玻璃掩膜靶
                參數(shù)規(guī)格 技術(shù)說明 組裝 應(yīng)用舉例
                產(chǎn)品說明

                ? 蝕刻鍍鉻玻璃掩模,用于過濾傅里葉平面中的圖案;

                ? 由10種鍍鉻玻璃微結(jié)構(gòu)圖案形成的圖像靶;

                ? 掩模圖含傅立葉、巴比涅、晶格光柵、星形網(wǎng)格、三角形光柵、扇形星等圖形;

                將不同的掩模、狹縫和光闌放置在分束鏡前傅里葉平面的光路中,這樣圖案的變化可以在觀察屏上看到。

                型號

                GMP-F

                規(guī)格

                75*25*1.0mm(±0.25)

                材質(zhì)

                石英SiO2鍍鉻膜

                重量

                4.9g



                示意圖
                通用參數(shù)



                1)利用傅里葉光學(xué)操縱投射到相機上的最終圖像的方法。將不同的掩模、狹縫和光闌放置在分束鏡前傅里葉平面的光路中,這樣圖案的變化可以在觀察屏上看到。相機同時也展示最終圖像的變化。

                ?



                (2)套件提供的鍍鉻玻璃靶具體10種不同的圖案和圖像,以便進行傅里葉濾波。含有不同的晶格光柵、傅立葉、巴比涅、晶格光柵、星形網(wǎng)格、三角形光柵、扇形星等圖形。


                傅里葉區(qū)域的操縱

                相機圖像

                操作

                傅里葉平面

                圖案

                加入水平狹縫


                加入豎直狹縫



                網(wǎng)格區(qū)域的操縱

                相機圖像操作

                傅里葉平面

                圖案

                加入水平狹縫


                加入豎直狹縫

                加入45°左斜狹縫

                加入45°右斜狹縫


                巴比涅原理的驗

                相機圖像

                操作

                傅里葉平面

                圖案

                加入圓點掩模片









                GMP-F 玻璃掩膜靶

                ? 蝕刻鍍鉻玻璃掩模,用于過濾傅里葉平面中的圖案;

                ? 由10種鍍鉻玻璃微結(jié)構(gòu)圖案形成的圖像靶;

                ? 掩模圖含傅立葉、巴比涅、晶格光柵、星形網(wǎng)格、三角形光柵、扇形星等圖形;

                件提供的鍍鉻玻璃靶具體10種不同的圖案和圖像,以便進行傅里葉濾波。

                型號
                規(guī)格
                工程圖
                對比
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                發(fā)貨日期
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